久久精品国产亚洲AV麻豆导航,久久精品国产免费播蜜桃,亚洲AV午夜福利精品一区,无码国产精品一区二区AV,久久96热在精品国产高清

NE-RE08是一款干法等離子去膠設備，適用于2/4/6/8英寸晶圓光刻膠去除和灰化工藝。設備采用高密度RIE等離子體刻蝕系統，具有去膠速率快、均勻性好、選擇比高、不錯的各向異性等性能優(yōu)勢。

產(chǎn)品特點(diǎn)：1、設備采用RIE反應離子刻蝕模式，去膠速率快。2、全面積工藝氣體入口噴淋頭，徑向（軸對稱(chēng)）抽氣結構，確保能提升工藝均勻性和速率。3、水冷電極冷卻系統實(shí)現襯底溫度控制。4、直開(kāi)式設計方便快速裝卸圓。

主要用途：1、用于8寸及以下的晶圓（SOI、SI、玻璃、銅片等其他半導體材料）正性及負性光刻膠去膠。2、聚酰亞胺光刻膠（PI）去膠。3、有機物去除。4、光刻工藝后，PR Descum 打底膜工藝

5、基片表面等離子活化（02\Ar）