Dec. 21, 2023
等離子清洗機是一種利用氣體電離產(chǎn)生等離子體來(lái)對材料表面進(jìn)行清洗活化改性的設備,其屬于干法清洗的一種,等離子清洗與傳統濕法清洗相比,不需要使用大量的酸、堿、有機溶劑等,不會(huì )給環(huán)境帶來(lái)任何污染,有利于環(huán)保和人員安全,同時(shí)該清洗技術(shù)的均勻性、重復性和可控性非常好,具有三維處理能力,并對清洗材料的種類(lèi)沒(méi)有限制。
任何事物都具有兩重性,同樣在了解等離子清洗機的優(yōu)點(diǎn)的同時(shí),還應了解它的不足及使用中存在的缺點(diǎn)。等離子清洗機在應用中確實(shí)存在一些制約因素。
1、等離子清洗機一個(gè)明顯缺點(diǎn)就是經(jīng)過(guò)等離子清洗的產(chǎn)品會(huì )有時(shí)效性,等離子清洗后的材料或產(chǎn)品,對材料改性的效果并不持久,隨著(zhù)時(shí)間的推移,部分處理效果會(huì )逐漸失去,這種現象稱(chēng)為等離子清洗的時(shí)效性或者老化。例如剛剛等離子清洗完的產(chǎn)品表面親水性能很好,但隨著(zhù)時(shí)間的推移,慢慢產(chǎn)品表面又開(kāi)始變得疏水。因此對于時(shí)效有要求的工藝,在選擇等離子清洗機時(shí)要充分考慮這個(gè)因素。因此我們一般都會(huì )建議客戶(hù)對使用完等離子清洗后的產(chǎn)品盡快進(jìn)行下一道工藝,無(wú)論是粘接,還是印刷涂層等,避免時(shí)效的影響。在等離子清洗完立馬進(jìn)行下一道工藝,是不會(huì )對后續(如粘接)的效果造成影響的。
2、等離子清洗機不是什么東西都能清洗,等離子清洗是一種微觀(guān)層面的清洗,清洗的程度僅僅是納米級到微米級之間,并不能完全替代傳統的濕法清洗,等離子清洗適合清洗有機物、氧化物和微小顆粒,等離子清洗對于去除表面有機物缺陷作用尤其明顯,對于灰塵、大顆粒的無(wú)機污染物,等離子清洗只能望塵莫及。
例如不能用這種方法除去物體表面的切削粉末,其次在應用過(guò)程中還發(fā)現不能用等離子體清洗很好地除去物體表面黏附的指紋,而指紋是玻璃光學(xué)元件上常出現的一種污染物。等離子體清洗也不是完全不能用于除去指紋,但這需要延長(cháng)處理時(shí)間,這時(shí)又不得不考慮到這時(shí)它會(huì )對基材的性能造成不良的影響。所以還需要采用其他清洗措施進(jìn)行預處理相配合。
3、采用等離子清洗機的一個(gè)缺點(diǎn)是清洗的工藝復雜,控制不當會(huì )使產(chǎn)品造成損傷。高能粒子,濺射清洗期間作為等離子的產(chǎn)物,可能導致在器件絕緣體(氧化物和氮化物)中形成電子空穴對,器件的電性能可能因此發(fā)生變化。樣品在射頻場(chǎng)中或在強烈的等離子體中可能被損壞,這需要關(guān)注。損壞的證據是不確定的,而且看來(lái)?yè)p壞僅發(fā)生在非常高的射頻功率且重復和延長(cháng)周期達到60~120分鐘。通常在較短時(shí)間的清洗步驟期間,我們不會(huì )遇到這樣的條件。
4、在使用氧氣等離子進(jìn)行清洗的場(chǎng)合,需要注意產(chǎn)品是否不能被氧化,氧氣等離子清洗的致命缺點(diǎn)是清洗完的器件容易生成新的氧化物,變成二次污染。
以上就是關(guān)于等離子清洗機缺點(diǎn)的一些介紹,在選擇等離子清洗這個(gè)工藝之前充分了解等離子清洗的缺點(diǎn),對于等離子清洗工藝能否滿(mǎn)足客戶(hù)的技術(shù)要求有一定幫助。目前等離子清洗技術(shù)廣泛應用在電子行業(yè)(主要是半導體和光電工業(yè))、橡膠、塑料、汽車(chē)及國防等領(lǐng)域。在半導體制造業(yè)中,等離子清洗技術(shù)已經(jīng)成為不可或缺的手段,其主要作用是能夠有效提高半導體元器件在生產(chǎn)制造過(guò)程中表面的潔凈度,且活化表面,提高產(chǎn)品的可靠性。這些充分證明缺點(diǎn)并不足以掩蓋等離子清洗的優(yōu)點(diǎn),未來(lái)等離子清洗機作為環(huán)保的干式處理設備,一定會(huì )得到更加大量的運用。
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