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氧等離子體清洗技術(shù)作為一種新型的表面處理技術(shù),已經(jīng)被廣泛應用于電子、半導體、醫療、航空、等要求高潔凈度表面的高科技領(lǐng)域以及工業(yè)制造方面。這種氣體可以在可控條件下被引導到需要進(jìn)行表面處理的物體表面上進(jìn)行清潔和改性。

該技術(shù)通過(guò)高電壓電極產(chǎn)生輝光放電,氧氣分子在電場(chǎng)的作用下被離子化。經(jīng)過(guò)離子化的氧離子與外部電子碰撞之后重新結合形成自由基或者分子等化學(xué)組分。此時(shí)反應腔內同時(shí)存在電子、自由基、離子、中性分子,各種組分之間相互作用和碰撞,反復發(fā)生質(zhì)量和能量的轉移,形成了非?；钴S的化學(xué)物理反應體系。放電形成的等離子體或等離子激活的化學(xué)活性物質(zhì)與材料表面進(jìn)行化學(xué)反應,等離子體中的活性氧與材料表面的有機物進(jìn)行氧化反應,氧等離子體與材料表面有機物作用,生成CO等揮發(fā)性分子,增強材料表面的粘附性能,提高表面的親水性。氧等離子體通過(guò)化學(xué)反應的方式,降低表面的垢和油污含量,使得表面清潔度得到大幅提升。同時(shí)再處理過(guò)程中等離子體清洗能夠增加表面活性,經(jīng)過(guò)氧等離子體清洗引入反應性氣體,在材料表面發(fā)生化學(xué)反應,形成新的官能團,例如羥基、羧基等與表面自由基、形成交聯(lián)結構層使得材料表面特性發(fā)生突變,進(jìn)而獲得新的化學(xué)結構,使其更易于潤濕和擴散。

氧等離子體清洗有機物原理圖

氧等離子體清洗具有低溫、不污染、高效、快速、易于控制等特點(diǎn)。等離子體的化學(xué)反應條件下,表面處理溫度比傳統技術(shù)要低,因此在保證物品本身質(zhì)量的前提下,可大幅減少能源的消耗。氧等離子體清洗技術(shù)不生成任何廢氣、廢水和廢渣等有害物質(zhì),減少了污染和廢物處理成本。

總體來(lái)說(shuō),氧等離子體清洗技術(shù)是一種綠色環(huán)保且高效快速的表面處理技術(shù),在該技術(shù)的處理下,提高材料的表面親水性,為后續基底處理過(guò)程提供了極大的便利。同時(shí)隨著(zhù)科技進(jìn)步和理解的深入,氧等離子體清洗技術(shù)將更加精細化,其對于材料表面的處理將會(huì )更加可控化。