Sep. 17, 2025
聚二甲基硅氧烷(PDMS)是一種有機硅聚合物,俗稱(chēng)硅橡膠。由于PDMS具有很多優(yōu)點(diǎn),因此近年來(lái)應用越來(lái)越廣泛,尤其被用來(lái)制造各種微納米器件。例如,由于PDMS價(jià)格低廉、透光性好以及生物相容性好,且易于采用澆注成型等方法進(jìn)行微納米溝道的制作,PDMS已成為微流控芯片最常用的一種加工材料。再如,由于PDMS具有良好的柔性和可延展性,PDMS也常被用來(lái)作為各種柔性電子器件的基底材料。
在制造各種PDMS微納米器件的過(guò)程中,往往需要先在PDMS基片表面進(jìn)行光刻膠的圖形化,然后對PDMS基片進(jìn)行各種微加工,或者在PDMS表面利用剝離等工藝制作金屬微結構。
然而,由于PDMS表面潤濕性差、熱膨脹系數大等特點(diǎn),導致在其表面很難采用標準的光刻工藝進(jìn)行光刻膠的圖形化,光刻膠往往會(huì )出現裂紋等缺陷。因此需要對PDMS表面進(jìn)行改性,來(lái)提高其表面的潤濕性能。
材料表面改性處理技術(shù)是當前材料學(xué)科研究的前沿領(lǐng)域,在過(guò)去的幾十年中,已經(jīng)廣泛使用各種改性技術(shù)(例如化學(xué)處理和蝕刻、臭氧處理、紫外線(xiàn)輻射和等離子體處理)來(lái)定制材料表面特性。對比不同改性技術(shù)的處理速度、均勻性、化學(xué)靈活性和對環(huán)境的影響,可知等離子表面改性處理是目前材料學(xué)研究領(lǐng)域中最具前景的技術(shù)之一,等離子體表面改性技術(shù)通過(guò)在一些表面性能較差的材料表面上結合各種官能團來(lái)對材料進(jìn)行改性處理,以提高它們表面的濕潤性,粘附性和生物活性反應,等離子體處理通常只對材料進(jìn)行表面的改性,而不會(huì )改變它們的整體性能
在實(shí)驗過(guò)程中發(fā)現,光刻膠無(wú)法均勻地旋涂在未經(jīng)過(guò)任何處理的PDMS基片表面,光刻膠不能夠形成一個(gè)完整的薄膜,如圖1(a)所示。這主要是由于PDMS的表面潤濕性差,導致光刻膠無(wú)法有效地在PDMS表面均勻鋪展。因此,為了提高PDMS的表面潤濕性,在旋涂光刻膠之前,采用氧等離子體對PDMS基片表面進(jìn)行改性處理。如圖1(b)所示,在經(jīng)過(guò)氧等離子體改性處理后的PDMS基片表面,光刻膠能夠均勻地旋涂,形成一個(gè)完整的薄膜。
圖1 PDMS基片表面旋涂的光刻膠
接觸角可以衡量一個(gè)表面的潤濕性,為了研究氧等離子體處理對于PDMS基片表面潤濕性的影響,利用一臺光學(xué)接觸角測量?jì)x,分別對等離子體改性處理前的PDMS基片和改性處理后的PDMS基片表面進(jìn)行接觸角測量。
測試用的PDMS基片外形尺寸均為25mm×25mm×1mm,隨機選取了3片PDMS基片。在每片PDMS基片表面的3個(gè)不同位置,分別進(jìn)行了接觸角測量,所有測量數據如表1所示??梢钥闯?等離子體改性處理前的PDMS表面為疏水性表面,其接觸角平均值為111.03°,經(jīng)過(guò)很長(cháng)時(shí)間,水滴仍然無(wú)法在其表面鋪展,如圖2(a)所示。然而,經(jīng)過(guò)氧等離子體改性處理后,PDMS表面由疏水性表面變?yōu)榱擞H水性表面,其接觸角平均值減小到了29.50°,水滴瞬間便會(huì )在PDMS表面鋪展開(kāi)來(lái)(圖2(b))。
PDMS基片氧等離子處理前后水滴角對比
可見(jiàn),氧等離子體改性處理的確可以非常有效地提高PDMS表面的親水潤濕性,從而使得光刻膠可以均勻地旋涂在PDMS基片表面,形成完整的光刻膠薄膜。
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