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桌面式 小型微波等離子清洗機NE-MW05
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

NE-MW05是一款結構緊湊、高性能的小型桌面式微波等離子清洗機,專(zhuān)為研發(fā)和小規模生產(chǎn)應用而設計,設備使用最新的性能出色的組件和軟件,可對工藝參數進(jìn)行精確控制,主要用于半導體、光學(xué)、電子、生物芯片等領(lǐng)域對各種材料表面進(jìn)行微觀(guān)清潔、活化、改性、去氧化、去膠等應用。  

NE-MW05依靠微波等離子體技術(shù),微波等離子體具有高電離度和離解度能產(chǎn)生更多的活性粒子,從而提高清洗速率,同時(shí)微波等離子清洗機本身沒(méi)有內部電極從而消除了電極在放電區域存在而帶來(lái)的電極材料污染,有利于高純化學(xué)反應和延長(cháng)使用壽命,適應于作高純度物質(zhì)的制備和處理。并且整個(gè)放電過(guò)程不需要正負電極,產(chǎn)生的自偏壓極小,等離子體中離子能量低,最大程度的降低了產(chǎn)品暴露在靜電放電(ESD)中,從根本上避免了產(chǎn)品表面損傷,因此微波等離子清洗技術(shù)非常適合于在半導體芯片封裝中應用。

產(chǎn)品參數

型號NE-MW05
等離子發(fā)生器頻率2.45GHz
微波功率1000W
腔體材質(zhì)石英玻璃
腔體容積5L
腔體尺寸(圓形)Φ160×260(D)mm
有效處理范圍145(W)*260(D)mm
氣體流量控制器
0-500scm
氣體通道2路(氧氣、氬氣等)
外形尺寸730mm(L)×584mm(W) ×382 mm(H)
電源220V


產(chǎn)品應用

01

去除光刻膠

去除光刻膠

02

晶圓打底膠

晶圓打底膠

03

刻蝕鈍化層

刻蝕鈍化層

04

親疏水改性

親疏水改性

05

去除氧化物

去除氧化物

06

表面清潔和活化

表面清潔和活化

產(chǎn)品推薦

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